Tratamiento superficial · selección de proceso
Sustratos especiales · sistema Ni-P neutro
Níquel químico a temperatura ambiente
Sistema Ni-P neutro a baja temperatura
Sistema Ni-P neutro que recubre a temperaturas relativamente bajas, apto para vidrio, cerámica y loza. Baja deformación y buena adherencia, preparación con una solución y uso en un solo lote.
Sustratos indicados en las instrucciones
Sistema Ni-P neutro
Rango de temperatura
Escena de proceso y referencias de sustrato
De la escena de recubrimiento a piezas de vidrio y cerámica
La primera imagen es conceptual aportada por el usuario; las otras muestran sustratos. Adherencia y resultados se verifican en la pieza.
La primera es conceptual; las otras son referencias no recubiertas con este proceso. Ninguna es foto de planta ni resultado.
1 / Características del proceso
Selección para sustratos especiales
Confirme las condiciones con sustrato, temperatura admisible y espesor.
Compatibilidad del sustrato
Aplicaciones en vidrio y cerámica
Baja deformación, buena adherencia
Apto para vidrio, cerámica y loza. Atención a superficie, pretratamiento y adherencia en la pieza real.
- Las instrucciones citan vidrio, cerámica y loza.
- Baja deformación y buena adherencia.
Ni-PRecubrimiento de aleación Ni-P
Selección de temperatura
Admite recubrimiento a baja temperatura
Evaluar temperatura y velocidad juntas
Temperatura de 30–90 ℃. Las instrucciones dan la relación temperatura-velocidad con baño nuevo, evaluable según requisitos y tiempo.
- A 30 ℃, la velocidad con baño nuevo es 1,25 μm/h.
- A 90 ℃, la velocidad con baño nuevo es 30±2 μm/h.
30–90℃Distintas temperaturas, distintas velocidades
Modo de producción
Preparación con una solución
Lote único, fácil de gestionar
Se prepara con una solución y se usa en un solo lote. Organice lotes según superficie, espesor y consumo.
- Baño preparado con un único componente.
- Lote único, fácil de gestionar.
Sistema neutropH 7,00±0,10
2 / Parámetros
Use condiciones claras como referencia
"Neutro" y "baja temperatura" se refieren a pH y temperatura y se evalúan con el sustrato.
En pantallas estrechas, deslice para ver todos los parámetros →
| Aspecto | Parámetro | Condiciones y notas |
|---|---|---|
| Sistema de recubrimiento | Ni-P | Sistema Ni-P neutro |
| Sustratos aplicables | Vidrio, cerámica, loza, etc. | Confirme la adherencia con pretratamiento y piezas reales |
| Características del recubrimiento | Baja deformación, buena adherencia | Descripción cualitativa; se verifican por pieza |
| pH | pH 7.00±0.10 | Condiciones de operación |
| Temperatura de servicio | 30–90℃ | La velocidad varía con la temperatura |
| Velocidad de deposición | 30±2 μm/h | Baño nuevo, 90℃ |
| Concentración de sulfato de níquel | 20±2 g/L | Sulfato de níquel hexahidratado NiSO₄·6H₂O; no es la concentración de níquel metálico |
| Uso | Una solución, lote único | Proceso de un solo lote según instrucciones |
- La velocidad a 90 ℃ no representa la de baja temperatura; vea la tabla inferior.
- Lo anterior sirve para seleccionar y no sustituye las instrucciones completas.
3 / Temperatura y velocidad
Evalúe la velocidad según la temperatura de la pieza
Todos son datos de baño nuevo. A baja temperatura, evalúe el tiempo según el espesor.
En pantallas estrechas, deslice para ver todos los parámetros →
| Temperatura | Velocidad de deposición | Condiciones de los datos |
|---|---|---|
| 30℃ | 1.25 μm/h | Baño nuevo |
| 35℃ | 1.65 μm/h | Baño nuevo |
| 40℃ | 2.15 μm/h | Baño nuevo |
| 50℃ | 3.75 μm/h | Baño nuevo |
| 60℃ | 6.90 μm/h | Baño nuevo |
| 70℃ | 12.2 μm/h | Baño nuevo |
| 80℃ | 19.0 μm/h | Baño nuevo |
| 90℃ | 30.0 μm/h | Baño nuevo; la tabla de condiciones indica aparte 30±2 μm/h |
Es la relación de las instrucciones, no garantía sostenida para cualquier edad o pieza.
4 / Selección por aplicación
Empiece por sustrato y temperatura
Indique sustrato, espesor y temperatura admisible para confirmar el plan.
Vidrio, cerámica y loza
Enfoque en adherencia, compatibilidad y temperatura.
Orientación: níquel químico neutro para vidrio y cerámica
Confirme el pretratamiento según sustrato y verifique en piezas reales.
Recubrimiento con límite de temperatura
Enfoque en temperatura admisible, espesor y tiempo.
Orientación: ajustar temperatura y velocidad
Confirme primero el límite de temperatura y evalúe con datos de baño nuevo.
Otros recubrimientos funcionales
Encuentre el sistema según la función.
Para Ni-P-W en resistencias de película delgada, vea Ni-P-W para resistencias de película delgada.
Resumen de selección
Parta de la compatibilidad y elija la temperatura.
El níquel químico a temperatura ambiente se dirige a vidrio, cerámica y loza con recubrimiento neutro a baja temperatura y adherencia. Defina el rango según temperatura admisible y confirme con espesor y piezas reales.
5 / FAQ
Distinga pH y fósforo
¿"Níquel químico neutro" es lo mismo que "níquel químico de P medio"?
"Neutro" se refiere al pH; este proceso trabaja a pH 7,00±0,10. "P medio" describe el fósforo del recubrimiento. Se elige para vidrio y cerámica, y el pH no permite deducir la clase de fósforo.
¿Alcanza 30 μm/h también a baja temperatura?
30±2 μm/h corresponde a baño nuevo a 90 ℃. A 30 ℃ es 1,25 μm/h; evalúe el tiempo a la temperatura elegida.
¿Es apto para todos los sustratos?
Apto para vidrio, cerámica y loza; metales que envenenan el catalizador (bismuto, cadmio, antimonio, estaño, plomo, soldadura, zinc) no lo son. Confirme con composición y pretratamiento.
Confirme una solución de níquel químico a temperatura ambiente con un ingeniero
Indique sustrato, espesor, adherencia y temperatura admisible; para servicio, también cantidad y requisitos del plano.