Traitement de surface · choix du procédé
Substrats spéciaux · système Ni-P neutre
Nickel chimique à température ambiante
Système Ni-P neutre basse température
Système Ni-P neutre déposant à température relativement basse, adapté au verre, à la céramique et à la porcelaine. Faible déformation, bonne adhérence, montage en une solution et usage en lot unique.
Substrats indiqués dans la notice
Système Ni-P neutre
Plage de température
Scène de procédé & références de substrat
De la scène de dépôt aux pièces en verre et céramique
La première image est un concept fourni par l’utilisateur ; les deux autres montrent des substrats. Adhérence et résultats à vérifier sur la pièce.
La première est conceptuelle ; les deux autres sont des références non traitées par ce procédé. Aucune n’est une photo d’atelier ni un résultat.
1 / Caractéristiques du procédé
Choix pour substrats spéciaux
Confirmer les conditions avec substrat, température admissible et épaisseur.
Compatibilité du substrat
Applications verre & céramique
Faible déformation, bonne adhérence
Adapté au verre, à la céramique et à la porcelaine. Attention à l’état de surface, au prétraitement et à l’adhérence sur pièce réelle.
- La notice cite explicitement verre, céramique et porcelaine.
- Faible déformation et bonne adhérence.
Ni-PDépôt d’alliage Ni-P
Choix de la température
Permet le dépôt à basse température
Évaluer température et vitesse ensemble
Température de 30–90 ℃. La notice donne la relation température–vitesse en bain neuf, à évaluer selon exigences et durée.
- À 30 ℃, vitesse en bain neuf : 1,25 μm/h.
- À 90 ℃, vitesse en bain neuf : 30±2 μm/h.
30–90℃Vitesses différentes selon la température
Mode de production
Montage en une solution
Lot unique, facile à gérer
Montage en une solution, produit pour lot unique. Planifier les lots selon surface, épaisseur et consommation.
- Bain monté avec un seul composant.
- Lot unique, facile à gérer.
Système neutrepH 7,00±0,10
2 / Paramètres de performance
S’appuyer sur des conditions claires
"Neutre" et "basse température" renvoient au pH et à la température, à évaluer avec le substrat.
Sur écran étroit, faites défiler pour voir tous les paramètres →
| Critère | Paramètre | Conditions & notes |
|---|---|---|
| Système de revêtement | Ni-P | Système Ni-P neutre |
| Substrats applicables | Verre, céramique, porcelaine, etc. | Confirmer l’adhérence avec prétraitement et pièces réelles |
| Caractéristiques du dépôt | Faible déformation, bonne adhérence | Description qualitative ; vérifiées par pièce |
| pH | pH 7.00±0.10 | Conditions de service |
| Température de service | 30–90℃ | La vitesse varie avec la température |
| Vitesse de dépôt | 30±2 μm/h | Bain neuf, 90℃ |
| Concentration en sulfate de nickel | 20±2 g/L | Sulfate de nickel hexahydraté NiSO₄·6H₂O ; pas la concentration en nickel métal |
| Utilisation | Une solution, lot unique | Procédé en lot unique décrit dans la notice |
- La vitesse à 90 ℃ ne représente pas celle à basse température ; voir le tableau ci-dessous.
- Ce qui précède sert au choix et ne remplace pas la notice complète.
3 / Température & vitesse
Évaluer la vitesse selon la température admissible de la pièce
Toutes les données sont en bain neuf. À basse température, évaluer la durée selon l’épaisseur visée.
Sur écran étroit, faites défiler pour voir tous les paramètres →
| Température | Vitesse de dépôt | Conditions des données |
|---|---|---|
| 30℃ | 1.25 μm/h | Bain neuf |
| 35℃ | 1.65 μm/h | Bain neuf |
| 40℃ | 2.15 μm/h | Bain neuf |
| 50℃ | 3.75 μm/h | Bain neuf |
| 60℃ | 6.90 μm/h | Bain neuf |
| 70℃ | 12.2 μm/h | Bain neuf |
| 80℃ | 19.0 μm/h | Bain neuf |
| 90℃ | 30.0 μm/h | Bain neuf ; le tableau de conditions indique séparément 30±2 μm/h |
Relation issue de la notice, sans garantie durable à tout âge de bain ou état de pièce.
4 / Choix par application
Commencer par substrat et température
Indiquez substrat, épaisseur et température admissible pour valider le plan d’évaluation.
Verre, céramique & porcelaine
Accent sur adhérence, compatibilité et température.
Orientation : nickel chimique neutre pour verre & céramique
Confirmer le prétraitement selon substrat, puis vérifier sur pièces réelles.
Dépôt sous contrainte de température
Accent sur température admissible, épaisseur et durée.
Orientation : accorder température et vitesse
Confirmer d’abord la limite de température, puis évaluer avec les données en bain neuf.
Autres revêtements fonctionnels
Trouver le système d’alliage selon la fonction.
Pour le système Ni-P-W des résistances à couche mince, voir Ni-P-W pour résistances à couche mince.
Synthèse du choix
Partir de la compatibilité du substrat, puis choisir la température.
Le nickel chimique à température ambiante cible verre, céramique et porcelaine, pour un dépôt neutre basse température et une bonne adhérence. Définir la plage selon la température admissible et valider avec épaisseur et pièces réelles.
5 / FAQ
Distinguer pH et teneur en P
"Nickel chimique neutre" équivaut-il à "nickel chimique moyenne teneur" ?
"Neutre" renvoie au pH ; ce procédé fonctionne à pH 7,00±0,10. "Moyenne teneur" décrit le phosphore du dépôt. Il est choisi pour verre et céramique, et le pH ne permet pas de déduire la classe de teneur.
Atteint-il 30 μm/h aussi à basse température ?
30±2 μm/h correspond au bain neuf à 90 ℃. À 30 ℃, 1,25 μm/h ; évaluer la durée à la température choisie.
Convient-il à tous les substrats ?
Adapté au verre, à la céramique, à la porcelaine ; les métaux poisons catalytiques (bismuth, cadmium, antimoine, étain, plomb, brasure, zinc) ne conviennent pas. Confirmer avec composition et prétraitement.
Valider une solution nickel chimique à température ambiante avec un ingénieur
Indiquez substrat, épaisseur, adhérence et température admissible ; pour le traitement de pièces, ajoutez quantité et exigences du plan.